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排膠燒結一體爐(lú)的應用於(yú)蒸發膜料靶材陶瓷基板(bǎn)

作者: 發布時(shí)間(jiān):2023-06-21 瀏覽次數:1316
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高溫(wēn)排(pái)膠燒結爐的應用於蒸發膜(mó)料,濺射靶材,陶瓷基板(氮化(huà)鋁氧化鋁)、玻(bō)璃金屬燒結外殼電鍍陶瓷基板、DBC直接鍵合陶瓷基板、AMB活性金屬焊接陶瓷基板、HTCC高溫共燒陶瓷(cí)等。從基板材料角度(dù)來看,主要有氧化(huà)鋁,氮化鋁(lǚ),氮化矽,氧化(huà)鈹等;其焊接材(cái)料,電(diàn)子漿料種類眾多,工藝複雜;陶瓷基(jī)板及其覆銅(tóng)板對(duì)生產工藝精度要求極(jí)其(qí)嚴格,部分關鍵材料技術門檻高。受益於(yú)下遊(yóu)強勢增長需求拉動,陶瓷基板及其封裝市(shì)場將迎來大爆發。目前已在半(bàn)導體照明、激光、光通信(xìn)、航空航天、汽(qì)車(chē)電子等(děng)領域得到廣泛應用。

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